エッチング装置
エッチング装置の製品ラインアップを紹介いたします。
マイクロ波ECR方式エッチングチャンバー
日立のコンダクターエッチングチャンバーは、処理圧力0.1Pa以下の高真空領域において、安定した高密度プラズマを生成することが可能なマイクロ波ECR方式を採用しています。 マイクロ波ECR方式はコイル磁場によるプラズマ分布制御や高さ制御をはじめとする豊富なパラメータにより広範囲なプロセスウィンドウを実現、さらにプラズマ制御技術をチャンバクリーニングに応用することで、安定した量産性能を提供します。 また、お客様のデバイスニーズに合わせた豊富なオプションもご用意しています。