ウェットステーション
![ウェットステーション](/jp/ja/media/index_main_jpg_tcm26-17220.jpg)
Siウェーハ、化合物、セラミック、プリント基板などに対するウェットプロセスに対し、3種類のプラットフォームからお客さまのニーズに適したソリューションを提供いたします。
製品ラインアップ
各種ウェットステーションの特長
多槽バッチ式ウェットステーション
バッチ式洗浄・剥離・エッチング処理に適応した装置です。ワークのディップ処理から乾燥までの連続処理が可能です。
スピンプロセッサ-
少量生産・研究開発などに適した処理装置です。ワークのケミカル処理から乾燥までの一括処理が可能です。
マルチスピンプロセッサー
高精度な処理を要求されるワークの量産向け・少量多品種・複数プロセス向けに適した装置です。ワークのケミカル処理から乾燥までの一括処理が可能です。
その他の装置
IPAペーパー乾燥装置
![](/image/jp/products/ind_solutions/industry/Infrastructure/wet_station/index_04.jpg)
各種治具洗浄装置
![](/image/jp/products/ind_solutions/industry/Infrastructure/wet_station/index_05.jpg)
石英管洗浄ユニット
![](/image/jp/products/ind_solutions/industry/Infrastructure/wet_station/index_06.jpg)
各種基板移載機
![](/image/jp/products/ind_solutions/industry/Infrastructure/wet_station/index_07.jpg)
平流し装置
![](/image/jp/products/ind_solutions/industry/Infrastructure/wet_station/index_08.jpg)
N2砥液供給ユニット
![](/image/jp/products/ind_solutions/industry/Infrastructure/wet_station/index_09.jpg)