Ion Sputter MC1000
특징
- LCD 터치 패널을 통하여 간단하게 전류・시간 등의 조건 설정이 가능
- 설정한 조건의 저장・불러오기가 가능한 Recipe 기능을 표준 장착
- 옵션 장착을 통하여 두꺼운 시료나 대형 시료도 대응 가능
사양
항목 | 내용 | |
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방전 | 방식 | 다이오드 방전 Magnetron형 (전장・자기장 직교형) |
전극 형상 | 대향평행원판 (Magnet 삽입) | |
전압 | 최고 전압 DC 0.4 kV (위상 제어에 따라 변경 가능) | |
전류 | 최대 전류 DC 40 mA (설정 범위: 5~40 mA) | |
Coating Rate (참고치*1) 최대치: <조건> 진공도: 7 Pa 방전 전류: 40 mA 시료 간 거리: 20 mm |
Pt Target 15 nm/min Pt-Pd Target 20 nm/min Au Target 35 nm/min Au-Pd Target 25 nm/min |
|
Coating 시간 | 5~300초 | |
시료 크기 | 최대 시료 지름 | Φ60 mm |
최대 시료 높이 | 20 mm | |
배기 펌프 | Rotary Pump 135/162 L/min (50/60 Hz) | |
Target (Φ63 mm)(별매품) | Pt, Pt-Pd(8:2), Au, Au-Pd(6:4) | |
소요 전원 | 단상AC 100 V (±10%) 15 A (50/60 Hz) | |
외형 치수 (본체) 옵션 비장착 시 |
폭 | 450 mm |
깊이 | 391 mm | |
높이 | 390 mm | |
질량 | 본체: 약 25 kg, Rotary Pump: 약 28 kg Carbon Coating Unit: 약 26 kg |
*1 Coating Rate는 참고치이며, 조건에 따라 변동될 수 있습니다.
표준 내역
항목 | 내용 |
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본체 | 1 |
Rotary Pump | 1 |
표준 부속품 | 1세트 |
취급설명서 | 1 |
설치 조건
항목 | 내용 |
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실온 | 15~25°C |
온도 | 45~85% 이하 (결로 생기지 않을 것) |
전원 | 단상 AC 100 V (±10%), 50/60 Hz, 1.5 kVA D종 접지, 접지 저항 100Ω 이하 부속 전용 개폐기 (누전검지기 (중감도 지연형 부속) 가 배치된 3P 콘센트) |
고객 준비품
항목 | 내용 |
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Ar 가스 압력 | 0.03~0.05 Mpa |
Ar 가스 주입 배관*2 | 1/4인치 SUS 배관 (1/4 Swagelok 지원), Regulator |
산소농도계*3 | 산소 농도 19% 이상 확인 가능한 것 |
권장 테이블 | 550(W) × 550(D) × 700(H)(mm) 이상, 내하중80 kg 이상 |
*2
Ar 가스 공급 설비 (Ar 가스 봄베) 와 장비 사이를 연결하는 배관입니다.
공급 설비(Ar 가스 봄베)용의 조압기와 함께 준비해 주십시오.
*3 아르곤 가스는 질식성이 있으므로 설치 장소에는 산소 농도계 및 환기 설비를 준비해 주십시오.
특별 부속품 (옵션)
항목 | 내용 |
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막 두께 및 온도 조절 기능*4 | 막 두께 설정 범위: 1~30 nm 온도 설정 범위: 실온~(실온-25)°C, 안정도±1°C 이내 |
대형 Chamber*5 | 최대 탑재 크기: φ150 mm, 최대 시료 높이: 20 mm |
45 mm Spacer*6 | 최대 시료 크기: Φ60 mm, 최대 시료 높이: 45 mm |
Carbon Coating Unit | 증착원: Carbon Rod 가열 절단 |
*4 수정 발진기의 질량 막 두께입니다. 후 장착 불가. 대형 Chamber 미지원
*5 후 장착 불가
*6 표준 Chamber 전용
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