ページの本文へ

日立ハイテク
  1. Home
  2. 製品サービス・ソリューション
  3. 半導体製造装置
  4. その他サービス
  5. 成分分析

成分分析

P&T-GCMS法

P&T-GCMS法

恒温槽内の石英チャンバにサンプルを入れて加熱し、揮発してくるガスを吸着管に捕集し測定します。

TDS-GCMS法

TDS-GCMS法

TDSは800℃まで昇温できるため、ウェーハ表面の成分だけでなく膜中からの脱ガス成分まで分析することができます。

TENAX吸着管法

TENAX吸着管法

TENAX吸着管法は、雰囲気中の有機物を分析する代表的な方法で、低沸点化合物から高沸点化合物まで幅広く分析することができます。

VPD-ICPMS、TXRF法

VPD-ICPMS、TXRF法

VPD-ICPMS法 :回収液を直接ICPMSやZAAで測定します。

アウトガス分析法

アウトガス分析法

専用揮発試験容器、石英容器内に材料を入れ、容器全体を加熱しガスを流します。

インピンジャー法

インピンジャー法

インピンジャーと呼ばれる石英容器内に純水を入れ、吸引ポンプで一定時間雰囲気を吸引し、純水に雰囲気中の不純物をバブリング水捕集させます。

ウェーハ不純物の袋抽出法

ウェーハ不純物の袋抽出法

この分析法は、処理袋と抽出・溶解液の選択により、複数の成分を測定することができます。

不純物溶出法

不純物溶出法

洗浄済の処理袋内に材料と不純物を抽出・溶解する液を入れ、密封処理をします。