このウェブサイトでは、JavaScriptの機能を有効に設定していただくことで、最適なコンテンツをご覧いただけます。
ページの本文へ
地域・言語選択
お問い合わせ
検索
検索
日立ハイテク
製品/サービス
お問い合わせ
Menu
関連コンテンツ
インピンジャー法
不純物溶出法
アウトガス分析法
P&T-GCMS法
TDS-GCMS法
TENAX吸着管法
VPD-ICPMS、TXRF法
ウェーハ不純物の袋抽出法
Home
製品サービス・ソリューション
半導体製造装置
その他サービス
成分分析
半導体プロセス関連 分析・評価業務のご提供
VPD-ICPMS、TXRF法
VPD-ICPMS、TXRF法
手順
ウェーハをHF雰囲気中で気相分解(VPD)し、ウェーハ上の自然酸化膜や生成膜をエッチングします。
1.のウェーハにHFなどの回収液を落とし、ウェーハ表面の不純物を回収液内に溶解させます。
VPD-ICPMS法 :回収液を直接ICPMSやZAAで測定します。
VPD-TXRF法 :回収液をウェーハ上で、赤外線ランプや減圧乾燥後、TXRFで測定します。
ご相談・お問い合わせ先
お問い合わせフォームはこちら
お客様サポートセンタのご案内
お問い合わせ
お問い合わせ
一つ上のページに戻る
ページ先頭へ
関連コンテンツ
インピンジャー法
不純物溶出法
アウトガス分析法
P&T-GCMS法
TDS-GCMS法
TENAX吸着管法
VPD-ICPMS、TXRF法
ウェーハ不純物の袋抽出法
日立ハイテク
日立ハイテクトップ
製品ソリューション
製品サービス・ソリューションから探す
業種・業界から探す
社会課題から探す
技術情報
サポート情報
ニュース・イベント
企業情報
国内グループ会社
海外グループ会社
サステナビリティへの取り組み
採用情報
日立グループTOP
サイトの利用条件
個人情報保護に関して
© Hitachi High-Tech Corporation.
2001
. All rights reserved.