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高加速CD-SEM装置 CV7300

高加速CD-SEM装置 CV7300
  • 200層以降の3D-NAND製造に必要な深穴・深溝の高精度寸法計測を実現
  • 先端のDRAMやロジックデバイスでの高精度なオーバーレイ計測を実現
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特長

  • 高加速電圧60kVのインラインCD計測SEM装置
  • スループットを従来比20％向上
  • 寸法・オーバーレイの計測精度を向上し、さらに装置間計測ばらつきを低減

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