2002年度作品「微の伝統美」
花鳥風月、ペイズリー、幾何学、あなたはどんな柄がお好みですか？これが今年注目の新柄です。
これは半導体デバイスの高密度多層配線を実現する上で重要な技術であるCMP（Chemical and Mechanical Polishing）処理を行った後のタングステン電極の配列をSEMで観察したものです。
この画像は、表面情報を持つ二次電子信号と組成情報を持つ反射電子信号を混合して得られたもので、あなたもハイテクが生み出した伝統美を身にまとってみませんか？
2002年（第58回）日本電子顕微鏡学会
写真コンクール 出展作品
撮影条件
- 試料：Wプラグウェーハ（CMP）
- 測定装置：走査電子顕微鏡 S-5200
- 加速電圧：3 kV
- 観察モード：Mixモード（SE＋BSE）
*: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
*: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
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