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ナノアート

2008年度作品「Golden Temple」

Golden Temple
©(株)日立ハイテク 鈴木裕也、今野充、大西毅、揚村寿英、関原雄、東淳三

FIB加工技術を用いて、シリコンウエハーから取り出したミクロンサイズのブロックから高さ約30µmの寺院を作製し、観察したSEM像です。このミクロンサイズの寺院は、世界遺産の金閣寺をイメージしました。FIB加工技術の進歩により、約600年前の室町時代をミクロの世界で再現できるようになりました。

2008年(第64回)日本顕微鏡学会
写真コンクール 出展作品

撮影条件

  • 試料:シリコン単結晶
  • 測定装置:集束イオン/電子ビーム加工観察装置 nanoDUE'T® NB5000
  • 撮影倍率:2,000倍
  • 加速電圧:5 kV

*: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。

*: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。

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