2005年度作品「Panorama Diffraction Pattern」
世界初、試料を180°回転しながら観察した電子線回折像です。［110］を中心とした合計13個の電子回折像が欠落なく連続的に観察されています。中央はその観察に用いた試料のSEM像です。試料はFIBマイクロサンプリング法により直径0.2µmの円柱状に加工し、試料回転ホルダーを用いて観察しました。電子顕微鏡による三次元ナノ構造解析がまた一歩、進歩しました。
2005年（第61回）日本顕微鏡学会
写真コンクール 最優秀作品賞受賞作品
撮影条件
- 試料：シリコン（Si）単結晶
- 測定装置：透過電子顕微鏡 H-9500
- 加速電圧：300 kV
- カメラ長：0.5 m
*: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
*: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
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