2006年度作品「Sapporo nano Tower」
©（株）日立ハイテクフィールディング 西元有香
写真は集束イオンビーム（FIB：Focused Ion Beam）加工技術を用いて作製した、世界で最も小さい塔の二次電子像です。
Siウエハからマイクロサンプリング法で高さ10µmの微小片を摘出し、試料回転ホルダーの試料台に固定した後、試料を回転しながら塔の形に加工しました。
もともと半導体デバイスの修復や評価用に開発されたFIB加工技術ですが、マイクロマニピュレーション技術の発達により、このような微細加工も出来るようになりました。
2006年 第16回 国際顕微鏡学会議（IMC16）
写真コンクール 材料部門第1位受賞作品
撮影条件
- 加工装置：集束イオンビーム加工観察装置 FB-2100
- 加速電圧：40 kV
- 測定装置：超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡 S-5500
- 加速電圧：2 kV
*: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
*: この作品は第16回 国際顕微鏡学会議（IMC16）、「写真コンクール」に出展された作品です。
*: 「nanoart」に掲載された写真、文章の無断転載を禁じます。
*: 「nanoart」は（株）日立ハイテクの日本国内における登録商標です。
